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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展2025年09月25日, 熱烈祝賀山西芯片工廠成功引入我司安捷倫電感耦合等離子體質(zhì)譜儀ICP-MS 7900系統(tǒng)!該設(shè)備配置氬氧裝置與專用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng),通過氬氧混合氣技術(shù),實(shí)現(xiàn)了對(duì)NMP有機(jī)溶劑的直接進(jìn)樣分析,可精準(zhǔn)檢測鉀、鈉、鈣、鎂、鐵、鎳、銅、錫、鈷等關(guān)鍵微量元素。感謝客戶對(duì)譜標(biāo)科技在半導(dǎo)體材料痕量分析領(lǐng)域技術(shù)實(shí)力的高度認(rèn)可,期待攜手助力芯片制造的純度管控邁向新高度!
完整驗(yàn)證了“芯片工廠使用安捷倫 ICP-MS 7900 系統(tǒng),通過氬氧混合氣技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì) NMP 有機(jī)溶劑直接進(jìn)樣分析”這一技術(shù)路線的可行性與行業(yè)現(xiàn)狀,關(guān)鍵結(jié)論如下:
硬件配置
7900 可加裝第五個(gè)質(zhì)量流量控制器 (MFC),用于向載氣中精確引入氧氣,形成氬氧混合氣,防止高碳有機(jī)溶劑(如 NMP)在采樣錐表面積碳,保證長周期穩(wěn)定運(yùn)行 。
半導(dǎo)體專用配置還包括鉑錐、PFA 微流量霧化器、帶屏蔽炬的 2.5 mm 石英中心管、低溫 Scott 霧化室等耐腐蝕、高靈敏度組件,滿足直接進(jìn)樣需求 。
直接進(jìn)樣與校準(zhǔn)策略
行業(yè)實(shí)踐表明,對(duì) EL/SP 級(jí) NMP 無需稀釋或酸化,可直接通過標(biāo)準(zhǔn)加入法 (MSA) 進(jìn)樣,避免外來污染,檢出限低至 ppt 級(jí) 。
氬氧混合氣有效消除碳基多原子離子對(duì) Mg、Al、P、Cr 等關(guān)鍵元素的質(zhì)譜干擾,背景等效濃度 (BEC) 顯著下降,滿足 SEMI C33-0213 Grade-3 規(guī)格 。
檢測指標(biāo)與性能
一次進(jìn)樣可同時(shí)定量 K、Na、Ca、Mg、Fe、Ni、Cu、Sn、Co 等 54 種溶解態(tài)金屬;在單顆粒 (sp) 模式下,還可同步表征 14 種元素的納米顆粒 (20–200 nm) 濃度與粒徑分布 。
對(duì)于 Fe、Cr、Ni 等高風(fēng)險(xiǎn)金屬納米顆粒,SP-NMP 級(jí)樣品比 EL-NMP 的顆粒濃度降低 1–2 個(gè)數(shù)量級(jí),為晶圓廠選擇更高純度化學(xué)品提供數(shù)據(jù)支撐
行業(yè)落地情況
多家大型半導(dǎo)體 FAB 已將“7900 + 氬氧混合氣 + 有機(jī)進(jìn)樣”方案納入 QC 標(biāo)準(zhǔn),用于 NMP、PGMEA、IPA 等制程溶劑的日常監(jiān)控,替代傳統(tǒng)的“稀釋-消解-ICP-OES/MS”兩步法,分析效率提升 50% 以上 。
綜上,安捷倫 ICP-MS 7900 通過氬氧混合氣技術(shù)與專用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng),確實(shí)可在芯片工廠實(shí)現(xiàn)對(duì) NMP 等有機(jī)溶劑的直接、高靈敏、多元素(含關(guān)鍵微/納米級(jí)金屬)分析,已成為半導(dǎo)體超純化學(xué)品質(zhì)量控制的主流手段之一。
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