合作伙伴：河南某半導(dǎo)體材料廠

儀器類型：電感耦合等離子體光譜儀

品牌：賽默飛

型號(hào)：iCAP PRO DUO ICP-OES

2025年09月15日，熱烈祝賀河南某半導(dǎo)體材料廠引進(jìn)我司賽默飛iCAP PRO DUO ICP設(shè)備，現(xiàn)已圓滿完成安裝、培訓(xùn)與調(diào)試！感謝貴廠對(duì)賽默飛產(chǎn)品的信任與支持。未來(lái)我們將持續(xù)提供高效、精準(zhǔn)的分析解決方案，助力貴廠在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域精益求精！

賽默飛iCAP PRO DUO ICP-OES設(shè)備在半導(dǎo)體材料檢測(cè)中具備以下關(guān)鍵能力與應(yīng)用場(chǎng)景：

1. 耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng)，適配硅基材料

配備耐氫氟酸（HF）的進(jìn)樣系統(tǒng)（如陶瓷炬管、PTFE霧化室），可直接分析含HF的半導(dǎo)體樣品（如硅粉、晶圓清洗液），避免傳統(tǒng)石英部件的腐蝕問(wèn)題。

示例：對(duì)工業(yè)硅中的磷、硼、鈣、鐵等雜質(zhì)元素進(jìn)行快速測(cè)定，滿足高純度要求。

2. 雙觀測(cè)模式（軸向/徑向）提升靈敏度

水平與垂直雙觀測(cè)模式可靈活切換，軸向模式提供高靈敏度（適合痕量元素），徑向模式抗基體干擾（適合高濃度樣品），適配半導(dǎo)體中不同含量范圍的雜質(zhì)分析。

3. 符合半導(dǎo)體行業(yè)超痕量檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)

檢出限低至ppb級(jí)，滿足SEMI標(biāo)準(zhǔn)對(duì)高純?cè)噭ㄈ缌蛩帷浞幔┲谐哿拷饘匐s質(zhì)（如Na、K、Fe）的管控要求，保障晶圓良率。

應(yīng)用案例：檢測(cè)電子級(jí)NMP（光刻膠溶劑）中的ppt級(jí)金屬離子，通過(guò)優(yōu)化等離子體條件（如冷等離子體模式）消除碳氮基體干擾。

4. 高效基體處理與穩(wěn)定性

采用陶瓷炬管（如D-Torch）和藍(lán)寶石中心管，耐高溫基體（如SiC、GaN），減少維護(hù)頻率，適合長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行產(chǎn)線監(jiān)控。

固態(tài)CID檢測(cè)器防溢出設(shè)計(jì)，避免高基體樣品（如硅片清洗液）的信號(hào)飽和，確保數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

5. 全流程半導(dǎo)體材料覆蓋

前道工藝：硅錠/晶圓表面雜質(zhì)（VPD-ICP聯(lián)用法）、外延層成分分析。

后道工藝：封裝材料（如濺射靶材）、高純?cè)噭p氧水、氨水）的質(zhì)控。

環(huán)保監(jiān)測(cè)：廢水中的痕量金屬（如Cu、Zn）合規(guī)性檢測(cè)。

6. 技術(shù)對(duì)比優(yōu)勢(shì)

相比單四極桿ICP-MS，iCAP PRO DUO在復(fù)雜基體（如高硅含量）中穩(wěn)定性更優(yōu)，且運(yùn)行成本更低，適合常規(guī)QC場(chǎng)景；而ICP-MS（如iCAP TQs）更適用于超痕量（ppt級(jí)）或需消除多原子干擾的科研級(jí)分析。

總結(jié)：該設(shè)備通過(guò)硬件耐腐設(shè)計(jì)、雙觀測(cè)模式及低檢出限，精準(zhǔn)覆蓋半導(dǎo)體材料從原材料到成品的雜質(zhì)監(jiān)控需求，尤其擅長(zhǎng)硅基體及氫氟酸體系的分析，是半導(dǎo)體行業(yè)質(zhì)量控制與工藝優(yōu)化的可靠工具。